在一般工業清洗中,酸,堿和水的配合比較常見,有些金屬用水洗要加入防銹劑;在精密和超精密工業清洗中。半水洗通常清洗效果很好,但運行成本較高,廢液不能再生回收,重復使用,含COD(化學耗氧量)較高,需要進行廢水處理。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來衡量水純度。半導體工業要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產10MΩ/cm就可以了,還有一些行業對細菌含量要求很嚴。近幾年,中國部分地區嚴重缺水,對清洗用水提出了挑戰。有的城市已經嚴禁用普通水洗車,而只能使用回收的中水,或者霧化水的節水設備。在精密工業清洗中,制備純水費用昂貴。
同時,在壓縮機和電真空領域,替代實驗也已經完成,特別是通過了壓縮機冷媒和潤滑油的相溶性實 驗,開始在壓縮機行業批量使用。⑸清洗條件溫和,盡量不依賴于附力口的強化條件,如對溫度、壓力、機械能等不需要過高的要求。電 真空行業協會組織的實驗也已經完 成,結果完全可以滿足要求。終報告正在完成之中。在中國生產HEP-2項目已經正式得到聯合國多邊的批準,國家環保總局正在組織有關單位在國 際履約環保產業園內實施該項目,屆時,HEP-2將成為中國ODS清洗劑的主要替代品。助洗劑在體系中起著螯合、緩蝕、消泡、增溶、穩定、抗沉積等作用。⑷有機氟化物(HCFC、HFO、HFE、PFC)

⑴清洗污垢的速度快,溶垢徹底。3、對印制線路板的去焊清洗,能夠很好的清洗產品表面殘留的污染物。清洗劑自身對污垢有很強的反應、分散或溶解清除能力,在有限的工期內,可較徹底地除去污垢。⑵對清洗對象的損傷應在生產許可的限度內,對金屬可能造成的腐蝕有相應的抑制措施。⑶清洗所用藥劑便宜易得,并立足于國產化;清洗成本低,不造成過多的資源消耗。⑷清洗劑對生物與環境無毒或低毒,所生成的廢氣,廢液與廢渣,應能夠被處理到符合國家相關法規的要求。⑸清洗條件溫和,盡量不依賴于附力口的強化條件,如對溫度、壓力、機械能等不需要過高的要求。