麗水不銹鋼鍍膜機廠家直供【至成真空科技】

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或膜材的不同表現而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統制造廠家提供高性能的小規格、簡便型光學鍍膜系統，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現在，系統的平均尺寸規格已經在降低，而應用小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學鍍膜系統的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

蒸發真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

電鍍設備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。薄膜厚度可由數百埃至數微米。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。

真空鍍膜設備維護和保養方法：

（1）真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。

方法是：用（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽閥內的污垢。

（2）當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續工作一個月（雨季減半），需更換新油。

方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。

鍍膜設備類型：

—空氣：(1)進口和出口區配備動態鎖定輥系統，確保帶材不間斷運動(2)帶材緩沖器、連接和分離裝置以及放置于鍍膜機前、后端大氣中的放卷機和收卷機，以保證連續生產(3)生產周期僅受限于靶材/真空腔體內蒸發物儲存量

—分批式：(1)真空工藝區入口和出口處連接的卷軸裝載鎖定腔體，使用帶材閥隔開(2)可在不中斷工藝真空的前提下裝載和卸載卷軸(3)生產周期為1卷軸的時間，然后停止，進行卷軸更換；帶材廢料長度約為工藝部分的兩倍(4)電子束工藝配備額外的檔板，用以補償卷軸更換

鍍膜模式：單面鍍膜：(1)所有鍍膜工具均位于帶材的一側(2)使用電子束(EB)工藝時，（一般情況下）帶材的底側將被鍍膜雙面鍍膜：(1)鍍膜工具均位于帶材的一側，卷材改變走帶方向(2)需要二次鍍膜與傳動裝置配備

非接觸式鍍膜選項針對敏感的光學鍍膜，提供非接觸式機器概念。