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              羅湖小型氣相沉積設備服務至上「多圖」

              發布時間:2021-06-21 09:35  

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              隨著工業技術的不斷發展,對材料的綜合性能要求也不斷提高,單一材料性能已不能滿足某些特定環境下工作機械的性能要求。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。國內真空離子鍍膜機經過幾十年的發展,相對于國外鍍膜設備而言,在自動化程度與技術上取得了一定的進步,但在鍍膜產品穩定性和性方面尚需提升,設備仍依賴進口。同時多弧離子鍍膜機低端產品市場存在供大于求的情況,價格競爭較為激烈。




              蒸發式真空鍍膜機的工作原理:通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之知一。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。物理氣相沉積(PVD)是一種真空鍍膜工藝,許多人知道常用于提高切削刀具的性能。蒸發物質的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發專源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。簡言之,蒸發式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內利用電阻加熱法,把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化,汽化了的金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑反射率的膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。




              真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

              真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。

              真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等制造業將以信息化融合為,依靠技術進步,更加注重技術能力積累。小型氣相沉積設備






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