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發布時間:2020-10-30 05:02  
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鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理,在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物),使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。顯然,一層膜只對一種色光起作用,而多層鍍膜則可對多種色光起作用。真空鍍膜廠家 多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率,
真空電鍍原理
電鍍廠需要一個向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同,但均含有提供金屬離子的主鹽,能絡合主鹽中金屬離子形成絡合物的絡合劑,用于穩定溶液酸堿度的緩沖劑,陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細化劑、整平劑、潤濕劑、應力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下,經電極反應還原成金屬原子,并在陰極上進行金屬沉積的過程。因此,這是一個包括液相傳質、電化學反應和電結晶等步驟的金屬電沉積過程。
真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中,以塑料為常見,其次,為紙張鍍膜。