真空鍍鈦廠家服務(wù)信息推薦 金常來(lái)廠家實(shí)力雄厚

電弧離子鍍陰極弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積，該技術(shù)材料的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。過(guò)濾陰極弧過(guò)濾陰極電弧(FCA)配有g(shù)ao效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)，可將弧源產(chǎn)生的等離子體中的宏觀大顆粒過(guò)濾掉，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機(jī)體的結(jié)合力很強(qiáng)。離子束離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產(chǎn)生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負(fù)極引出陽(yáng)離子又經(jīng)加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應(yīng)和注入效應(yīng)。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應(yīng)物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結(jié)構(gòu)、耐化學(xué)和耐溫性、結(jié)合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應(yīng)性氣體（例如氮?dú)饣蚝細(xì)怏w）；之后形成含金屬蒸氣的復(fù)合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉(zhuǎn)固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

在熱鍍鋼鐵制件時(shí)，鋅液面在430℃下鍍層表面會(huì)出現(xiàn)羽毛狀花斑和細(xì)小難看的白斑，含錫、鉛的合金添加量一旦達(dá)到0.5%時(shí)，就會(huì)出現(xiàn)鋅花，xin灰明顯增多。

鉛和錫含量過(guò)高時(shí)在鍍鋅層冷卻過(guò)程中極易形成粗大的結(jié)晶和出現(xiàn)龜裂紋現(xiàn)象，影響鋅層的表面光滑度和耐腐蝕性能。

晶間腐蝕對(duì)雜質(zhì)鉛zui敏感，鉛量達(dá)到0.02%就會(huì)出現(xiàn)晶間腐蝕，在鍍層中沿晶界po裂而失去附著力，甚至表面會(huì)出現(xiàn)黃豆粒大小的氣泡。在應(yīng)用鋅鋁合金或多元合金時(shí)要了解鉛、錫、鋁的含量，決定是否在鋅液中添加。

熔融池中金屬液體含有大約8%～11%硅（Si），其余成分為鋁。

鋁硅鍍層會(huì)在鋼板表面形成明顯的鋁-鐵-硅合金層，其特點(diǎn)是優(yōu)異的耐高溫性能，可以應(yīng)用在一些高溫加工和高溫工作環(huán)境中。

鍍層厚度和重量的關(guān)系：鍍層厚度1μm≈3g/m2。

注3：熱鍍鋁硅鍍層鋼板及鋼帶，是貿(mào)易中提及的“鍍鋁板”的一個(gè)種類。在歐標(biāo)中鍍純鋁是需要單獨(dú)協(xié)議供貨的，而在JIS標(biāo)準(zhǔn)中則根據(jù)耐腐蝕和耐高溫等不同的應(yīng)用做了分類。