石龍真空鍍膜加工廠信賴推薦「拉奇納米」

普通的電鍍、電泳處理的后的產品的耐鹽霧時間僅能達到70-100小時。而采用Parylene可以達到300-500小時。其耐腐蝕時間是前者的4-5倍。磁性材料（絕緣、防銹、防線傷、填補穩定特性制作）     鑄造部件 經Parylene處理的表面不會有微粒產生，同時可以增強工作的可靠性，并且可防止污染。

Parylene在精密電子儀器設備PCBA,FPC，ＳＭＤ上的應用

Parylene涂層是在室溫下在元件上自發形成的，不需要經升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。Parylene有高的機械強度和低的摩擦系數，這二者的結合使Parylene成為對小型繞線傷害元件絕緣層。Parylene是這些先進組裝方式的防護材料。Parylene活性分子的良好穿透力能在元件內部，底部和周圍形成無氣隙的防護層。

能夠提高產品的耐腐蝕性能，通常物件遇到潮濕或者酸堿性的物質，都會氧化比較快快，而有了膜層的保護，可以抵御一些腐蝕，減慢氧化速度，增加產品使用的時間。

派瑞林薄膜制備過程為環狀二聚體在高溫下兩個相連，生成具有活性，當其從高溫環境進入室溫環境的沉積室時，不穩定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。

蒸發源有三種類型。

①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發物質電阻加熱源主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

②高頻感應加熱源：用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發物質。

③電子束加熱源：適用于蒸發溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發。

蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。

濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術，1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生產。常用的二極濺射設備。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空后充入 10-1帕的氣體（通常為氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產生輝光放電。