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              鎂合金微弧氧化表面要求品質售后無憂「在線咨詢」

              發布時間:2020-12-31 11:00  

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                     與普通的陽極氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,與基質結合緊密, 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術的優勢1.微弧氧化工藝穩定可靠,設備簡單,反應在常溫下進行,操作方便,易于掌握。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優良,與基體結合牢固, 且工藝簡單,對環境污染小, 目前對其生長規律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究, 在工業上得到了一定的應用, 是一種具有發展潛力的鎂合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業中應用匯越來越廣泛。


              微弧氧化技術的特點

              1、大幅度地提高了材料的表面硬度,顯微硬度在 1000 至 2000hv ,高可達 3000hv ,可與硬質合金相媲美,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;

              2、有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達 100m ω。

              3、溶液為環保型,符合環保排放要求。

              4、工藝穩定可靠 , 設備工藝簡單, 。

              5、 反應在常溫下進行,操作方便,易于掌握。



                     微弧氧化膜層生長發育時,先在基體表面產生放熱反應,轉化成一層陽極處理膜。當擴大反映電壓時,膜層厚度會進一步增加,再次增加電壓,厚度會隨著增加。可是當反映電壓增加到一定水平時,膜層會因為不可以承擔該工作電壓產生充放電且熱擊穿,造成低溫等離子充放電。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、效率高、效果強、適合規模生產,又對環境污染小,因此目前在諸多行業都處于蓬勃發展的時期。反映的高溫將使膜層產生熔化,基體原素因為處于富氧自然環境中,將產生化合物。另外因為是在鋰電池電解液中,熔化物將一瞬間冷凝器,在基體表面轉化成一層瓷器。陶瓷膜的轉化成,將造成工作電壓進一步上升,膜層再度被熱擊穿,膜層厚度進一步增加。循環反復,膜層足以生長發育。 微弧氧化生產商、微弧氧化電源


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