臺(tái)灣手機(jī)納米鍍膜設(shè)備的行業(yè)須知

手機(jī)納米鍍膜設(shè)備

工藝特點(diǎn)

（1）廣泛應(yīng)用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機(jī)涂層材料等。

（2）在產(chǎn)量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質(zhì)量優(yōu)勢(shì)，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺(tái)階覆蓋性優(yōu)良。

（4）工具涂層的生產(chǎn)效率不如PVD，具體取決于特定技術(shù)要求和輔助工藝。

化學(xué)氣相沉積曾是真空技術(shù)廣泛用于陶瓷沉積的種技術(shù)，特別是對(duì)工具涂層更是這樣。

鍍膜機(jī)工藝在太陽能運(yùn)用方面的運(yùn)用當(dāng)需求有用地運(yùn)用太陽熱能時(shí)，就要思考選用對(duì)太陽光線吸收較多、而對(duì)熱輻射等所導(dǎo)致的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。

4、適用材料

化學(xué)氣相沉積曾是真空技術(shù)廣泛用于陶瓷沉積的一種技術(shù)，特別是對(duì)工具涂層更是這樣。

20世界80年代早期隨著等離子體輔助PVD工藝的顯露，CVD在工具方面的應(yīng)用衰落了。但由于這種工藝具有非常好的滲入特性，其在CVI、ALE等領(lǐng)域的工藝中有著很好的應(yīng)用前景，主要用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機(jī)涂層材料。

金屬箔(尤其是銅箔)上的化學(xué)氣相沉積(CVD)是目前制備大面積高質(zhì)量石墨烯薄膜具發(fā)展前景的方法生長在銅箔上的石墨烯薄膜中為什么會(huì)出現(xiàn)“adlayers”，發(fā)現(xiàn)薄膜中的碳雜質(zhì)直接導(dǎo)致adlayers的成核和生長。通過使用飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜和燃燒分析，發(fā)現(xiàn)商業(yè)銅箔有‘過量的碳’，尤其是在表面附近，深度約為300納米。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對(duì)于功能性應(yīng)用非常需要，例如工具，裝飾件，光學(xué)增強(qiáng)，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經(jīng)建立好的應(yīng)用程序的幾個(gè)例子。

此技術(shù)中使用的設(shè)備維護(hù)成本低，并且對(duì)環(huán)境無害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)，從而增加產(chǎn)品的耐用性和價(jià)值。沉積技術(shù)在機(jī)加工過程中具有重要作用。

機(jī)加工工具可能是緊急的應(yīng)用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，高耐磨性，化學(xué)穩(wěn)定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產(chǎn)具有優(yōu)異附著力，均勻?qū)樱O(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，漸變特性，可控形態(tài)，材料和特性的高度多樣性的涂層。