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發布時間：2021-08-17 08:20
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平面拋光機行業此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。至今，拋光技術在我國已經達到了頂峰，各種拋光設備在中國都有生產，比如：超聲波拋光機，滾筒式拋光機，雙面拋光機，平面拋光機，離心式拋光機，振動拋光機。如何能突破瓶頸發展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導體的相關政策出來后，隨著硅片生產廠商的積極響應，也給平面拋光機生產廠家帶來了新的契機。
目前以平面拋光機廠家已經開始研發硅片磨拋技術，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。形狀簡單的零件可以用硬拋光輪或拋光帶，形狀復雜的零件用軟拋光輪拋光。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰，相對國外而言，我們的技術是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學習，然后在此基礎上進行改良和完善，以適用我們國內的生產環境。
在模具拋光中，工藝相對復雜，流程可以分為粗拋、半精拋、精拋幾步。模具拋光主要用機械拋光來進行是為了得到更好的產品質量與加工精度，而且相對于其它工藝，在成本上也相對廉宜。
在拋光的過程中，應該分開在兩個工作地點來完成粗拋加工和精拋加工，而且要注意清洗干凈上一道工序殘留在工件表面的砂粒。圓管綜合力學性能好，焊接性，冷，熱加工性能和耐腐蝕性能均好，具有良好的低溫韌性。一般從油石到1200#砂紙完成粗拋光后，工件需轉移到無塵間進行拋光，確保空氣中無灰塵微粒粘在模具表面。如果要進行更為精密的高精密拋光或者超精密拋光，則必須在潔凈的空間內。
在拋光工藝完成后，工件表面要做好防護工作，避免工件表面遭到損壞。當拋光過程停止時，應仔細去除所有研磨劑和潤滑劑，保證工件表面整潔，隨后應在工件表面噴涂一層模具防銹層。
要在風道出風口外接除塵裝置過濾灰塵。風道的另一頭一般會留個小門，以便進出清理風道內沉積的灰塵（有些被抽到外面）。
拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。西漢時期的青銅鏡鏡面加工技術更是負有盛名，在《淮南子》中有所描述。 拋光時，高速旋轉的拋光輪（圓周速度在20米／秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達Ra0.63～0.01微米;當采用非油脂性的消光拋光劑時，可對光亮表面消光以改善外觀。
敏化現象。對于拋光來說，主要是在維持研磨所取得良好的平面度前提下，去除工件表面微小的凸起和表面損傷層，以獲得鏡面光度。不銹鋼因含有Cr在表面形成氧化鉻薄膜，失去化學活性，稱為鈍化狀態，但奧氏體系若經過475~850℃溫度范圍時，C會與Cr結合生成碳化鉻（Cr23C6）析出在晶體邊界，因此晶界附近的Cr含量大減，成為貧Cr區。此時，其耐腐蝕性會降低，對腐蝕環境特別敏感，故稱為敏化現象。敏化現象在氧化酸的使用環境容易腐蝕，此外還有焊接熱影響區和熱間彎曲加工區。其防治方法有：
a) 在475~850℃溫度范圍升降時，迅速通過，讓Cr沒有足夠的時間和C結合，無法析出碳化鉻。
b) 對已經發生敏化現象的不銹鋼施以高溫固溶化處理，加熱至足以使碳化鉻分解的溫度（1040~1150℃），然后急速冷卻，使碳化鉻來不及析出。
c) 選用低碳型不銹鋼加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN，使Cr無法與C結合。研磨加工過程就是利用游離磨粒對零件表面進行刮削和擠壓去除材料的過程，達到提高平面度和降低表面粗糙度的目的。一般C含量在0.05%以下，焊接便不會產生晶界腐蝕，但須特別注意清潔，避免油污等含C物質的污染。在含氫氧酸的混合酸中使用，C含量在0.03%以下。
