激光脈沖沉積裝置報價值得信賴「沈陽鵬程」

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

技術指標：

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可實現(xiàn)公轉換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調。　　

二維掃描機械平臺，執(zhí)行兩自由度掃描,控制的內容主要有公轉換靶、靶自轉、樣品自轉、樣品控溫、激光束掃,

質量流量控制器1路　　

烘烤溫度：150℃數(shù)顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數(shù)顯自動熱偶控溫可加熱到800℃）

脈沖激光沉積簡介

隨著現(xiàn)代科學和技術的發(fā)展，薄膜科學已成為近年來迅速發(fā)展的學科領域之一，是凝聚態(tài)物理學和材料科學的一個重要研究領域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領域具有十分廣泛的應用。長期以來，人們發(fā)明了多種制膜技術和方法：真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領域得到應用。沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有先進的技術，我們都以質量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術和設備的發(fā)展，特別是高功率脈沖激光技術的發(fā)展，脈沖激光沉積（PLD）技術的特點逐漸被人們認識和接受

以上就是關于脈沖激光沉積的相關內容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

脈沖激光沉積的應用領域

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。

應用領域：

單晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

壓電薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

鐵電薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

熱電薄膜（SrTiO3）

金屬和化合物薄膜電極（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半導體薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介質薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

超導薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波導，光學薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

紅外探測薄膜（V2O5，PZT）

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。【設備主要組成】設備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強大的銷售團隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！