光學鍍膜工藝擇優推薦 東莞仁睿電子

磁控濺射真空鍍膜機導致不均的因素哪些？專業從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個因素就是：真空狀態、磁場、亞氣。

磁場是正交運作的，但你要將磁場強度做到一定均勻是不可能的，一般磁場強的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會造成膜層厚度的不一致，不過在生產過程中，由于磁場的不均勻導致的膜層不均勻的情況卻不是常見的，為什么呢？

真空電鍍大家應該都有一定的了解，它主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優點。

正是由于這些優點，所以真空電鍍設備的應用非常廣泛，如在ABS料、ABS PC料、PC料，家用電器、化妝品包裝等產品上都有著不錯的應用。同時因其工藝流程復雜、環境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴.

真空鍍膜PVD前與PVD鍍膜后的區別是什么？PVD真空鍍膜應用范圍廣，機械設備、電子器件、五金、航天航空、化工廠等制造行業都可以用到，那么，真空鍍膜PVD前與PVD鍍膜后的區別是什么？為什么那么多的人選擇PVD真空鍍膜。

1.產品經過鍍膜后，會在產品表面形成一種保護膜，降低腐蝕，增加耐磨性，抗擊產品的老化問題。

2.真空鍍層能夠更改商品的外型，顏色，以及色澤，考慮顧客的要求，如金屬材料真空泵鍍層可以是金色的。