臨汾磁芯parylene涂覆工藝多重優(yōu)惠 菱威派瑞林鍍膜工廠

       真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開(kāi)始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見(jiàn)，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       納米涂層低凸的表面可以吸附周圍的氣體分子，形成一層穩(wěn)定的薄膜氣墊，避免了PCB表面及元器件管腳金屬材料與水分子的直接接觸。在PCB表面形成極細(xì)微的網(wǎng)狀膜層，有效降低線路板及電子元器件表面能，使沉積在PCB表面的水滴接觸角趨于大值，PCB表面呈現(xiàn)出較強(qiáng)的超疏水性能。

       這種防水的功能性涂層能使手機(jī)等電子產(chǎn)品表面層具有極強(qiáng)的疏水、憎水、防水效果，物體表面上的水珠猶如在荷葉上一樣滾落，類似荷葉效應(yīng)，使附著在物體表面的污垢，塵土隨著水珠重力快速滑落，帶走玻璃表面的塵土和大部份污垢，不留水痕跡，達(dá)到了雙重自潔凈的效果。

       由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過(guò)程中保持清晰，不會(huì)與骨骼、組織或體液發(fā)生反應(yīng)，故而，越來(lái)越多都用于，例如鋒利的手術(shù)器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC，TIN)已廣泛應(yīng)用在不銹鋼零部件上，作用是可減少摩損和延長(zhǎng)零部件壽命，但因?yàn)橥繉颖旧碛腥毕莺停允褂迷谝恍?nbsp; 耐腐蝕要求高的環(huán)境下，效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案：PVD涂層提供耐磨性，納米透明膜提供耐腐蝕性。

       PVD工藝一般只是直線沉積，對(duì)形狀復(fù)雜，縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問(wèn)題，無(wú)論形狀多復(fù)雜，每個(gè)位置的膜厚都是一致的，沒(méi)有大偏差。

       對(duì)于在太空飛行的航天器來(lái)講，真空是一個(gè)天然的、現(xiàn)實(shí)的外部環(huán)境，為真空絕緣應(yīng)用提供了的自然條件。通過(guò)派瑞林真空氣相鍍膜保護(hù)技術(shù)，對(duì)實(shí)際的產(chǎn)品進(jìn)行了絕緣設(shè)計(jì)及工藝驗(yàn)證。結(jié)果表明，采用真空氣相沉積工藝在電極表面涂敷一定厚度的Parylene涂層，可以更好地滿足產(chǎn)品在真空環(huán)境下的絕緣防護(hù)性能要求。

       真空絕緣是基于空氣擊穿放電的機(jī)理，不同于固體或液體絕緣，因其本身的”真空”，缺少足夠的可以移動(dòng)的離子，也不會(huì)受到材料老化影響，不會(huì)受到機(jī)械、熱、化學(xué)、濕度、輻射等因素的影響，這是在應(yīng)用時(shí)的天然形成的許多優(yōu)點(diǎn)，正是基于這些優(yōu)點(diǎn)，分析認(rèn)為更符合在空間環(huán)境中應(yīng)用的高電壓電子產(chǎn)品。