RD6光刻膠價格品質售后無憂 北京賽米萊德

光刻膠

北京賽米萊德貿易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側壁角度，是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。前道工藝出了問題，保證不了科研與生產，光刻膠國產化就遙遙無期。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢：

光刻膠的重要性

在北京化工大學理學院院長聶俊眼里，我國雖然已成為世界半導體生產大國，但面板產業(yè)整體產業(yè)鏈仍較為落后。目前，上游電子化學品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴進口，必須加快面板產業(yè)關鍵核心材料基礎研究與產業(yè)化進程，才能支撐我國微電子產業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。國家重點支持的高新技術領域（2015）中提到“高分辨率光刻膠及配套化學品作為精細化學品重要組成部分，是重點發(fā)展的新材料技術”。

“假如我們把光刻機比作一把菜刀，那么光刻膠就好比是要切割的菜，沒有高質量的菜，即使有了鋒利的菜刀，也無法做出一道佳肴。”日前，江蘇博硯電子科技有限公司技術部章宇軒在接受科技日報記者采訪時說。

NR77-15000P

9，去膠:濕法去膠，用溶劑、用NONG硫酸。將帶有光刻膠層的半導體結構置于去膠機內，在射頻電壓的能量的作用下，灰化氣體被解離為等離子體。負膠，98%H2SO4 H2O2 膠=CO CO2 H2O,正膠：BIN酮,干法去膠（ash）氧氣加熱去膠O2 膠=CO CO2 H2O,等離子去膠Oxygenplasma ashing,高頻電場O2---電離O- O ,  O 活性基與膠反應CO2，CO， H2O, 光刻檢驗