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多弧離子PVD鍍膜設備鍍工藝及應用

離子鍍基本工藝流程

①工件的預熱．

一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對工件進行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱，達到預熱的目的，有時電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對工件進行預熱。

②離子轟擊濺射清洗．

一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負偏壓，利用輝光放電產生的Ar離子轟擊基片，對基片進行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級，Ar離子轟擊基片進行離子轟擊濺射清洗；電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對工件加熱的同時對工件進行離子轟擊濺射清洗。

③離子沉積.

不同的離子鍍方法在離子沉積時，所使用的源和離化方法不同，具體的設備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數也不同，因此，應根據具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數，還應注意在整個沉積過程中保持工藝參數的穩定。

真空鍍膜機鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機技術的不斷發展，使很多原來不能鍍膜的材料也得以實現鍍膜，但仍有一部分材料并未研發出解決方案，但我非常期待，因為科技是無窮的，很多以前不敢想象的技術，現在都實現了，將來必須會出現新的一頁。

對于真空鍍膜機的技術，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術性的發展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機進行鍍膜的，因為塑料本身所帶有的某些特性是目前的鍍膜技術仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機鍍膜呢，歸納起來，可以分三點來挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結合在一起，才能不易脫落，壽命長久，有些塑料沒辦法和臘層很好的結合在一起，研究人員發現在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結合的涂料，這樣就解決了附著力的問題，但這種涂料在與膜層能加強結合外，現時也要和塑料加強結合，同時滿足這兩種條件的涂料也不是說那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機鍍膜了。

其次，塑料本身必定會含有一些揮發性的雜質，隨著溫度的上漲，會揮發逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發物質是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時，要選擇放氣量少的，這樣對于真空鍍膜機運作時的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話就會控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質量。

后就是塑料受熱的穩定性，塑料受到廣泛使用就是因為其可以在加溫的狀態下按照設計者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機的鍍膜時的環境下，必定產生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩定就會變形，即使鍍的膜層再好，工件已經變形，又有什么用呢，所以對于塑料材料的鍍膜，都會使用產生的熱量低于工件熔點的真空鍍膜機，但有些塑料熔點實在在低的，目前的技術仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機的鍍膜。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現了飛快的發展，從舟蒸發、電子束熱蒸發及其離子束輔助沉積技術發展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經有大量研究工作已經證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統，對鍍膜過程產品片實現直接監控。相對于間接光控和晶控系統，間歇式直接光控系統有利于降低實際產品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產品良率并減少了工藝調試時間。

光學真空鍍膜機清洗和保養方法

光學薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用;比方說，平時戴的眼鏡、數碼相機、各式家電用品，或者是防偽技術，皆能被稱之為光學薄膜技術應用之延伸。光學鍍膜技術以及普及到人們生活方方面面，因此光學真空鍍膜機也是大家目前非常關注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學真空鍍膜機在平時運行的時候該如何清洗和保養問題，希望能讓大家對光學真空鍍膜機多一些了解。

首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機的清洗問題：設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈。

因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子槍及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。