廣州高真空電子束鍍膜機報價給您好的建議

電子束結構介紹

粒子增速器的結構可以與顯像管類比。顯像管中的電子槍對應于增速器的電子槍或離子源，顯像管中加速電子用的高壓電極對應于增速器中的高壓加速電極及加速腔。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節約資源。顯像管中控制電子運動的電偏轉板與聚焦電子的聚焦線圈，對應于增速器中控制粒子運動軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件，如導向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。對粒子增速器的粒子運行管道來說，為了減少粒子在運動中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞，所要求的真空度比顯像管要高數千到數萬倍。隨著科學技術的不斷發展，根據科學家對粒子能量和流強的不同要求，陸續產生了不同原理、不同結構的多種增速器。

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電子束蒸發鍍膜機產品介紹

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產品配置：

★樣片數量及尺寸： 1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或傘形工件架（用戶定制）

★蒸發材料：金屬；非金屬；化合物等薄膜材料。

★蒸發腔體：高真空系統。

★蒸發不均勻性：≤±3%-±5％

★工件架：可旋轉，轉速可調

★加熱：常規加熱

★電子槍：E型，帶XY偏轉掃描

★電子槍坩堝：6穴，17cc

★膜厚監控功能：石英晶控膜厚在線監測與終點控制

★清洗功能：可選配離子源清洗

★器件一次成型復合實驗系統：通過復合mask系統與樣品對準系統，一次完成器件的多個工藝步驟

★檢測與控制光學特性的功能：可選配光控儀

★操作模式：全自動 半自動控制

電子束鍍膜機的特點/用途介紹

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產品特點/用途：

?設備一體化設計，占地面積小，性能穩定，性價比高，使用維護成本低；

?適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等；

?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。