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              發布時間:2021-01-21 07:12  






              1.均一性良好;2.可容忍較多的不純物;3.不用添加劑可得到光澤;4.可用不溶性陽極;5.操作范圍廣;6.配方簡單;7.前處理要求不高。


              硫酸可以增加鍍錫液的導電性能,促進錫陽極的溶解,并能抑制鍍液中二價錫的水解,硫酸含量過高會使陽極溶解加快,使鍍液中錫含量增加,使鍍錫層粗糙。硫酸含量過低,會使鍍液分散能力下降,陰極電流密度降低,影響鍍錫層的光亮性,使二價錫容易水解,導致鍍液的渾濁。化學鍍層具有高的致密度、薄厚均一,具有良好的抗腐蝕性和耐磨損、好的可焊性、高的硬度、低的摩擦系數。


              7、工藝技術高適應性強:在盲孔、深孔、管件、拐角、縫隙的內表面可得到均勻鍍層,所以無論您的產品結構有多么復雜,本技術處理起來均能得心應手,漏鍍之處。8、低電阻,可焊性好。9、耐高溫:該催化合金層熔點為850-890度。按GB10125-1997標準規定進行測試,時間為96小時,Nacl濃度50g/l,ph值:6.5-7.2,溫度:35,按GB6464-86規定評定防護等級,可達9級。這些酶參與生成NADH、無氧糖酵解、三羧循環和由氨基酸釋放氮。磷含量(質量百分數):6%-12%  電阻率:60-75μΩ.cm密  度:7.9g/cm3  熔 點:860-880℃硬  度:鍍態:Hv500-550(45-48RCH) 熱處理后:Hv1000結合力:400MPa,遠高于電鍍內應力:鋼上內應力低于7Mpa


              化學鍍工藝的形成與理論的完善也只有近20-30 年的歷史。在廣東應用化學鍍的企業占全國三分之一以上,其中一些上規模的企業,技術和價格具有相當的競爭力。它的問世追溯于1946 年美國電化學協會(AES)第34 屆年會上Abneor 和Grace Riddell 報告了他們在電鍍鎳時,為了避免惰性陽極發生氧化而在鍍槽內加入還原劑次亞磷酸鈉后,發現陰極沉積的鎳量多于按照法拉第(M. Faraday)電解定律所計算的,一年以后的另一次年會上,他們首較地報告了利用還原劑還原鎳離子的化學方法鍍覆鎳時,溫度、


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