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發布時間:2020-09-05 03:31  





東莞真空電鍍設備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結合力,真空電鍍設備熱膨脹系數相差小,不起反應,流平性能好。
東莞真空電鍍設備施涂性能良好。真空電鍍設備流平性能良好,有適當的黏度、固化時間短。真空電鍍設備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍設備與底涂層要有一定的相溶性;真空電鍍設備成膜性能與施涂性能優良;真空電鍍設備具有適當的機械強度;真空電鍍設備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設備腐蝕性能好。抗老化性能強。

真空七彩電鍍生產廠家的真空鍍膜根據鍍膜氣相金屬產生的方式和沉積方式的不同,分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中,磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結合力強,鍍膜層致密、均勻等優點,更具有技術優勢。
合金型鍍膜材料有鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀-金等;金屬化合物有二氧化硅、二氧化鈦、二氧化希等。其中,尤以鋁應用多普遍。這主要因為鋁蒸發溫度低、易操作、鋁鍍層對塑料附著力好、對紫外線和氣體阻隔性強、價格低廉。
真空電鍍加工技術一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。
物理氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得,它利用某種物理過程,如物質的熱蒸發,或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象,實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。