AF光學鍍膜機值得信賴,至成鍍膜機廠家供應

ITO真空鍍膜設備生產特點

1)真空室體資料選用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁選用拋光后噴珠處理。

2)真空室之間選用獨立門閥-插板閥隔開，能夠完成有用隔斷，安穩技能氣體。現在咱們至成真空科技選用插板閥規劃，它比現在國內通用的翻板閥密封作用非常好，更經用。

3)傳動選用磁導向，確保傳動的安穩性。整條出產線的各段速度選用變頻調速電機驅動，運轉速度可調理。

4)真空電鍍設備電氣操控體系：觸摸屏與PLC自動操控，人機對話辦法來完成體系的數據顯現、操作與操控

真空鍍膜機鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機技術的不斷發展，使很多原來不能鍍膜的材料也得以實現鍍膜，但仍有一部分材料并未研發出解決方案，但我非常期待，因為科技是無窮的，很多以前不敢想象的技術，現在都實現了，將來必須會出現新的一頁。

對于真空鍍膜機的技術，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術性的發展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機進行鍍膜的，因為塑料本身所帶有的某些特性是目前的鍍膜技術仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機鍍膜呢，歸納起來，可以分三點來挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結合在一起，才能不易脫落，壽命長久，有些塑料沒辦法和臘層很好的結合在一起，研究人員發現在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結合的涂料，這樣就解決了附著力的問題，但這種涂料在與膜層能加強結合外，現時也要和塑料加強結合，同時滿足這兩種條件的涂料也不是說那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機鍍膜了。

其次，塑料本身必定會含有一些揮發性的雜質，隨著溫度的上漲，會揮發逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發物質是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時，要選擇放氣量少的，這樣對于真空鍍膜機運作時的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話就會控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質量。

最后就是塑料受熱的穩定性，塑料受到廣泛使用就是因為其可以在加溫的狀態下按照設計者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機的鍍膜時的環境下，必定產生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩定就會變形，即使鍍的膜層再好，工件已經變形，又有什么用呢，所以對于塑料材料的鍍膜，都會使用產生的熱量低于工件熔點的真空鍍膜機，但有些塑料熔點實在在低的，目前的技術仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機的鍍膜。

真空鍍膜機給物件鍍膜,為什么要在真空狀態下進行?

真空鍍膜機已經廣泛應用于生活中，大家對它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應用領域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機在給物件鍍上一層膜的時候，為什么要選擇在真空狀態下進行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無法形成理想的薄膜，事實上，如在壓力不夠低(或者說真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結果，比如在10托數量級下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發灰、發黑，而且機械強度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進行，這是因為：

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運動，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運動的速度相當的高(可達每秒幾百米)，但是由于它在前進的過程中要與其它分子多次碰撞，一個分子在兩次連續碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統計平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳氫化合物等)，它們能給薄膜的鍍制帶來極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發源高溫化合減少其使用壽命；它們在已蒸發的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過程不能順利進行。

真空鍍膜機分類

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。主要是分成蒸發和濺射兩種。在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉 自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。