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發布時間：2021-05-02 16:45
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X射線測厚儀結構
一六 熒光測厚儀 十年以上研發團隊 集研發生產銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機物
一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
（一）、外部結構原理圖
X熒光做鍍層分析時，根據射線是至上而下照射樣品，還是至下而上照射樣品的方式，將X熒光分析儀的外部整體結構分為：上照射和下照射兩種結構。
（二）、各種外部結構的特點
1、上照射方式
用于照射(激發)的X射線是采用由上往下照射方式的設備稱為上照射儀器。此類設備的Z軸為可移動方式，用于確定射線照射光斑的焦點，確保測量的準確性。
①、Z軸的移動方式
根據Z軸的移動方式，分為自動和手動兩類；
自動型的設備完全由程序與自動控制裝置實現，其光斑對焦的重現性與準確度都很高，而且使用非常簡便（一般是與圖像采集系統與控制系統相結合的方式），一般只需要用鼠標在圖像上點擊一下即可定位。任選靶材:W、Mo、Ag等功率:50W(4-50kV，0-1。此類設備對于測試形狀各異的樣品非常方便，也是目前主流的分析設備類型。
手動型設備，一般需要用人觀察圖像的方式，根據參考斑點的位置，手動上下調節Z軸方向，以達到準確對焦的目的。因此，往往在測試對象幾何結構基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。
②、X、Y軸水平移動方式
水平移動方式一般分為：無X、Y軸移動裝置；手動X、Y軸移動裝置；電動X、Y軸移動裝置；全程控自動X、Y軸移動裝置。
這幾類的設備都是根據客戶實際需要而設計的，例如：使用無X、Y軸移動裝置的也很多，結構簡單，樣品水平移動完全靠手動移動，這種設備適合于樣品面積較大，定位比較容易的測試對象。
一六儀器 專業測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法 X射線熒光鍍層測厚儀
應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題
X熒光鍍層測厚儀標準片選擇與使用
1．一般要求
使用可靠的參考標準塊校準儀器。后的測量不確定度直接取決于校準標準塊的測量不確定度和測量精度。
參考標準塊應具有的已知單位面積質量或厚度的均勻的覆蓋層，如果是合金，則應知其組成。參考標準塊的有效或限定表面的任何位置的覆蓋層不能超過規定值的±5%.只要用于相同的組成和同樣或已知密度的覆蓋層，規定以厚度為單位（而不是單位面積質量）的標準塊，將是可靠的。X熒光光譜分析是一種非常常見的分析技術，二、應用領域X熒光光譜儀作為一種常見的分析技術手段，在現實生活中有著非常廣泛的應用，主要可以分為以下四大類：1。合金組成的測定，校準標準不需要相同，但應當已知。
金屬箔標準片。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標準片，就必須注意確保接觸清潔，無皺折紐結。任何密度差異，除非測量允許，否則必須進行補償后再測。
2．標準塊的選擇
可用標準塊的單位面積厚度單位校準儀器，厚度值必須伴隨著覆蓋層材料的密度來校正。005mm，速度10-30mm（X-Y）/圈，再小再多的樣品測試都沒有難度，讓操作人員輕松自如。標準片應與被測試樣具有相同的覆蓋層和基體材料，但對試樣基材為合金成分的，有些儀器軟件允許標樣基材可與被測試樣基材不同，但前提是標準塊基體材料與試樣基材中的主元素相同。
3．標準塊的X射線發射（或吸收）特性及使用
校正標準塊的覆蓋層應與被測覆蓋層具有相同的X射線發射（或吸收）特性。
如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定，則厚度標準塊的基體應與被測試樣的基體具有相同的X射線發射特性，通過比較被測試樣與校正參考標準塊的未鍍基體所選的特征輻射的強度，然后通過軟件達到對儀器的校正。
江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發、生產、銷售的高新技術企業。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區。我們專業的研發團隊具備十年以上的從業經驗，經與海內外多名通力合作，研究開發出一系列能量色散X熒光光譜儀
X射線熒光光譜分析儀結構及組成：用X射線照射式樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此試用的儀器叫X射線熒光光譜儀。因此，X射線熒光的能量或波長是特征性的，與元素有一一對應的關系。由于X光具有一定的波長，同事又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有2種基本類型：波長色散型（WD）和能量色散性（ED）。
波長色散型是由色散元件將不同波長的特征X射線衍射到不同的角度上，探測器需移動到想要的位置上來探測某一波長能量的射線。而能量色散型，是由探測器本身的能量分辨本領直接探測X射線的能量。為使產品國際化，我國出口商品和涉外項目中，對鍍層厚度有了明確要求。波長色散型譜線分辨本領高，而能量色散型可同時測量多條譜線的能量。
