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發布時間：2020-12-22 15:24
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自動磁控濺射系統概述
帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，大到6'旋轉平臺，可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下的載片基于LabView軟件的PC計算機控制帶密碼保護功能的多級訪問控制完全的安全聯鎖功能預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片。
帶有14”立方形不銹鋼腔體，4個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，350 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。
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