稀土拋光粉廠家推薦「多圖」

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發階段。






目前，我國生產系稀土拋光粉的原料有下列幾種：（1）氧化（CeO2），由混合稀土鹽類經分離后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學處理后的中間原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳礦精礦。

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國具有豐富的資源，據測算，其工業儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今后我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，并可促進我國稀土工業繼續高速發展。

　　1.4主要生產工藝及設備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘干→系稀土拋光粉產品。