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              河源玻璃鏡片生產(chǎn)廠家PMMA面板,延銘PMMA面板加工

              發(fā)布時間:2021-03-22 22:38  

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              產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于: 電子、 精密五金、 通訊、汽車工程、航空航天、石油化工、軍事、科研、精密工程應(yīng)用元件 等行業(yè)。 公司所使用的材料以進口為主,能夠?qū)Ω鞣N不同的金屬材質(zhì)進行蝕刻加 工,主要有 SUS304、SUS301奧氏體鋼不銹鋼系列、鐵素體鋼材、馬氏體鋼、非 鐵金屬、合金材料、復(fù)合材料等各種特殊材料。厚度從0.01mm—2.0mm,公差可控制在±0.005mm。金屬蝕刻技術(shù)資料1、金屬銘牌包括:銅牌、鋁牌、不銹鋼牌、鈦金牌和鐵牌。 本公司自成立以來,勵精圖治,精益求精,憑借全體員工的誠信、務(wù)實、 創(chuàng)新的企業(yè)精神, 在技術(shù)開拓創(chuàng)新方面躋身蝕刻行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位。


              蝕刻過程中常見的問題

              蝕刻速率降低 蝕刻速率降低與許多因素有關(guān), 故需要檢查蝕刻條件 (例如﹕溫度、 噴淋壓力、 溶 液比重、 PH 值和氯化銨的含量等)﹐使其達到適宜的范圍。 蝕刻溶液中出現(xiàn)沈淀 是由于氨的含量過低(PH 值降低)﹐或水稀釋溶液等原因造成的 (例如:冷卻系統(tǒng)漏 水等)。 溶液比重過高也會造成沈淀。 抗蝕鍍層被浸蝕 是由于蝕刻液 PH 值過低或 CL 含量過高所造成的。②電泳填漆:即用本公司的標牌蝕刻填漆機進行填漆——適用于標牌尺寸不大的標牌。 銅的表面發(fā)黑, 蝕刻不動 蝕刻液中 NH4CL 的含量過低所造成的。



              條寬損失 (Etch bias) 過蝕刻 (Over etch) – 在平均膜厚完全蝕刻掉以后的額外蝕刻。補償蝕刻速率和膜厚的不均勻 性。 殘留物 (Residues) – 在蝕刻和平版印刷過程中無意留下的物質(zhì)。 微掩膜(Micro-masking)-- 由于微粒,薄膜摻雜以及殘留物產(chǎn)生的無意留下的掩膜。金屬采用焊接,折彎,洗槽,車床,水切割,線切割,打磨,拋光,拉絲,電鍍,氧化,腐濁,烤漆。 糊膠(Resist reticulation)-- 溫度超過 150 攝氏度時光刻膠產(chǎn)生的燃燒和折皺。 縱橫比(Aspect ratio)-- 器件結(jié)構(gòu)橫截面深度和寬度的比率。


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