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              金屬蒸發鍍膜機定做常用指南

              發布時間:2020-08-23 15:03  

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              ZF450型全自動熱蒸發鍍膜機

              沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業電阻器熱蒸發鍍膜供貨商,我們為您提供下列信息內容。

              選用3~8組蒸發源可適配金屬材料、有機化合物蒸發。因其具有背景干擾低的特點,可用來進行納克(ng)級分析,故而成為業界定性定量分析的必選儀器。廣泛運用于高等院校材料、物理學、有機化學、電子器件、電力能源等有關課程及其科研單位制取高品質作用塑料薄膜、蒸鍍電級等,非常合適OPV/鈣鈦礦/無機物太陽能薄膜充電電池、半導體材料、有機化學EL、OLED顯示信息科學研究與開發設計行業。

              1.前開關門真空內腔,便捷拿取基片、拆換蒸發舟、加上蒸發材料及其真空室的平時維護保養;

              2.1200L/s分子泵做為主抽泵,真空限達到5×10-5Pa; 

              另可選擇進口磁懸浮分子泵或是低溫泵做為主抽泵,真空限達到 3×10-6Pa;

              3. 組水冷器蒸發電級,可長期平穩工作中,適配金屬材料材料與有機化學材料的蒸發源設計方案,

              源間有避免交叉式環境污染擋板;

              4. 真空蒸發開關電源,恒流電源/恒輸出功率操縱。可保持一鍵啟動和終止的自動控制系統作用;

              5.較大120mm基片/15~25mm ITO/FTO夾層玻璃25片,可訂制一體化高精密刻蝕掩膜板;

              6.基片臺自轉,轉速比0~25rpm持續可調式;

              7. 襯底可挑選加溫或水冷散熱,源基距較大350mm;

              8. 選用進口膜厚監控器儀在線監控和操縱蒸發速度、膜厚;

              9. 可堆積金屬材料(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬材料、化學物質(MoO3, LiF等)

              及有機化合物材料, 可擴展堆積單面膜、雙層膜及混和膜;

              以上就是關于電阻熱蒸發鍍膜產品的相關內容介紹,如有需求,歡迎撥打圖片上的熱線電話或關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司!



              300C有機無機聯合蒸發

              主要用途:   

              用于制備導電薄膜,半導體薄膜,鐵電薄膜,光學薄膜等。   

              系統組成:   

              該蒸鍍設計系統主要由真空抽氣及真空測量系統、真空室系統、工件架系統、蒸發源系統、膜厚測試系統、蒸發舟擋板系統、烘烤照明系統、水冷卻循環及報警系統、電控及控制系統、輔助系統等設計。   

              技術指標:   

              極限真空度:≤6.7×10 Pa   

              恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min   

              系統漏率:6. 7×10-7Pa.L/S;   

              真空室:Ф400 x400mm圓筒型真空室 ,   

              蒸發源:1-4個,采用電阻蒸發舟、蒸發藍、絞絲、束源爐至下向上蒸發鍍膜。  

              蒸發溫度:加熱溫度:室溫~1800℃;   

              蒸發舟在距中心100~160mm的圓周上;蒸發舟可上下升降,調節幅度0~150mm(樣品中心與坩堝距離150~300mm);  

              工作架類型及尺寸:樣品托盤直徑Φ300mm,其上可放多個直徑20mm的小樣品;樣品托盤具有自轉功能,轉速在0~20 轉/分鐘,轉速可調;樣品托盤可擺角,角度在0~30度可調;   

              烘烤溫度:400℃數顯自動熱偶控溫(高溫爐盤,數顯自動熱偶控溫可加熱到700℃)   

              電阻蒸發源:電壓5V,10V,功率2.5KW,水冷電極1~4對   

              石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999?

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