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光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用及應(yīng)用

光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用 光學(xué)鍍膜機(jī)可鍍制層數(shù)較多的短波通、長(zhǎng)波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車(chē)反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對(duì)金屬、氧化物、化合物及其他高熔點(diǎn)膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。 光學(xué)鍍膜機(jī)應(yīng)用于觸控面板抗指紋玻璃及金屬防指紋，除了防指紋應(yīng)用外，還可應(yīng)用于防銹、防污、保護(hù)納米鍍膜。防污膜(AS)，又稱防水膜或防指紋(AF膜)，主要是通過(guò)真空鍍膜的技術(shù)將有機(jī)氟化物材料沉積到基材上，使基材表面具有防水、防油、防指紋、防污染等功能。

真空鍍膜機(jī)注意事項(xiàng)及保養(yǎng)

真空鍍膜機(jī)注意事項(xiàng)及保養(yǎng) 真空鍍膜機(jī)的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)溫度，熱蒸發(fā)成蒸氣分子材料，蒸發(fā)出來(lái)的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于微電子，光學(xué)成膜，裝飾，表面工程等領(lǐng)域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定的運(yùn)行，正確的使用及保養(yǎng)方法是必不可少的。 開(kāi)機(jī)前要檢查水電氣是否正常，開(kāi)機(jī)后，光控系統(tǒng)等于要先穩(wěn)定1小時(shí)再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類(lèi)的需要蓋上離子源的防護(hù)板，防止離子源柵網(wǎng)損壞。為了使光學(xué)鍍膜機(jī)能正常工作，平時(shí)需要對(duì)機(jī)器進(jìn)行保養(yǎng)，定期更換泵油，2個(gè)月左右為宜，真空泵也2個(gè)月一換，新的真空泵需要在使用半個(gè)月就立即更換，定期清潔設(shè)備及周邊環(huán)境，保持設(shè)備及環(huán)境的干凈。

光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

光學(xué)鍍膜機(jī)對(duì)于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因 光學(xué)鍍膜機(jī)主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等等也會(huì)造成膜色差異問(wèn)題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對(duì)策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái); ㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門(mén)的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng)，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。

真空鍍膜機(jī)的工作原理

真空鍍膜機(jī)的工作原理 在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測(cè)該薄膜樣品不同厚度下的性能。對(duì)于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個(gè)問(wèn)題：首先，不同次生長(zhǎng)的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測(cè)的成本。 因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。 多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要用途：用于制備各種金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學(xué)膜、超導(dǎo)膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。