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發(fā)布時間:2021-05-31 08:45  
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高純水設(shè)備的主要組成部分
高純水設(shè)備的主要組成部分 高純水設(shè)備的EDI工藝系統(tǒng)選用經(jīng)過一次反滲透除鹽后的水作為進水,再經(jīng)過EDI模塊內(nèi)離子交換樹脂進行二次除鹽;這樣可以使純水制造過程連續(xù)化,它替代了傳統(tǒng)DI混合樹脂床制造去離子水的方法,避免使用酸堿再生;大量減少酸堿成本投入的同時也可以有效避免環(huán)境污染。 1、采用XL-400模塊5塊; 2、電阻率、電導(dǎo)率在線監(jiān)側(cè)儀表一組; 3、電源控制系統(tǒng):主要電器元件為器件,采用PLC控制,電動球閥、電器元件。

工業(yè)純水設(shè)備的新工藝
工業(yè)純水設(shè)備的新工藝 工業(yè)純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置??梢杂糜冢猴嬘盟⑵垦b水、食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細化工、光學工業(yè)用水、電鍍用水、用水、透析用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等。 原水(設(shè)有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據(jù)地區(qū)不合選用)→精密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統(tǒng)→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設(shè)備用水(水質(zhì)可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/㎝以下,25℃)

工業(yè)純水設(shè)備紫外線殺菌的特點
工業(yè)純水設(shè)備紫外線殺菌的特點 工業(yè)純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置。工業(yè)用純水機可以用于:飲用水、瓶裝水、食品工業(yè)用水、半導(dǎo)體工業(yè)、精細化工、光學工業(yè)用水、電鍍用水、用水、透析用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等。 1.紫外線殺菌速度快,,效果好。 2.紫外線照射不會改變水的物理和化學性質(zhì),對純水不會帶入附加物所引起的污染。 3.適用于各種水的流量下,操作簡單,適用方便,只需要定期清洗石英玻璃套管,更換燈管即可。 4.體積小,輕便,耗電低。 5.紫外線殺菌沒有持續(xù)消毒作用,易受二次污染。
