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              NR9 3000PY光刻膠價格誠信企業(yè)推薦 北京賽米萊德公司

              發(fā)布時間:2020-12-11 13:53  

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              NR77-20000P

              正膠PR1-2000A1技術(shù)資料

              正膠PR1-2000A1是為曝光波長為365 或者436納米,可用于晶圓步進器、掃描投影對準(zhǔn)器、近程打印機和接觸式打印機等工具。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求,在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑,如HMDS。

              相對于其他的光刻膠,PR1-2000A1有如下的一些額外的優(yōu)勢:

              PEB,不需要后烘的步驟;

              較高的分別率;

              快速顯影;

              較強的線寬控制;

              蝕刻后去膠效果好;

              在室溫下有效期長達2年。



              PR1-1000A1

              NR9-3000PY 負性光刻膠

              負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

              和接觸式光刻等工具。

              顯影之后,NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

              NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

              - 優(yōu)異的分辨率性能

              - 快速地顯影

              - 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

              - 耐受溫度100℃

              - 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年

              Lift-Off工藝

              應(yīng)用領(lǐng)域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。

              濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

              附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

              Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠

              負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線(365

              nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻



              NR77-25000P,RD8


               品牌

               產(chǎn)地

               型號

               厚度

               曝光

               應(yīng)用

               加工

               特性

               Futurrex

               美國

               NR71-1000PY

               0.7μm~2.1μm

               高溫耐受

               用于i線曝光的負膠

               LEDOLED、

                   顯示器、

               MEMS、

                   封裝、

                   生物芯片等

                   金屬和介電

                   質(zhì)上圖案化,

                   不必使用RIE

                   加工器件的永

                  組成

                  (OLED顯示

                   器上的間隔

                   區(qū))凸點、

                   互連、空中

                   連接微通道

                   顯影時形成光刻膠倒

                   梯形結(jié)構(gòu)

                   厚度范圍:

                   0.5~20.0 μm

                   i、g和h線曝光波長

                   對生產(chǎn)效率的影響:

                   金屬和介電質(zhì)圖案化

                   時省去干法刻蝕加工

                   不需要雙層膠技術(shù)

               NR71-1500PY

                1.3μm~3.1μm

               NR71-3000PY

               2.8μm~6.3μm

               NR71-6000PY

               5.7μm~12.2μm

               NR9-100PY

               粘度增強

               NR9-1500PY

               NR9-3000PY

               2.8μm~6.3μm

               NR9-6000PY

               NR71G-1000PY

                負膠對  g、h線波長的靈敏度

               NR71G-1500PY

               NR71G-3000PY

               NR71G-6000PY

               NR9G-100PY

               0.7μm~2.1μm

               NR9G-1500PY

               1.3μm~3.1μm

               NR9G-3000PY

               NR9G-6000PY

               耐熱溫度

               PR1-500A

               0.4μm~0.9μm




              ?Futurrex

              提供先進化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案

              成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

              公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲

              基于多樣化的技術(shù)

              應(yīng)用領(lǐng)域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

              解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

              客戶:從財富100強到以風(fēng)險投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司

              使命

              目標(biāo)

              提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能

              策略

              提供獨特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程,以提高設(shè)備能效

              領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價比

              工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能

              增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率

              工藝減化

              非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

              在生產(chǎn)過程中,不含有害溶劑

              支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功


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