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發(fā)布時間：2021-08-11 21:50
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光刻膠的相關(guān)信息
利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為三種類型。
光聚合型采用烯類單體，在光作用下生成自由基，自由基再進一步引發(fā)單體聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特點。光分解型采用含有疊氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄裕梢灾瞥烧阅z。光交聯(lián)型采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負性光刻膠。柯達公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。
光刻膠的概述
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。
光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形；而負膠卻恰恰相反，經(jīng)過曝光后，受到光照的部分會變得不易溶解，經(jīng)過顯影后，留下光照部分形成圖形。
負膠在光刻工藝上應(yīng)用早，其工藝成本低、產(chǎn)量高，但由于它吸收顯影液后會膨脹，導(dǎo)致其分辨率（即光刻工藝中所能形成圖形）不如正膠，因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù)，主要使用正膠作為光刻膠。
硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
注意事項：
①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；
②看光刻機型式,若是投影方式,用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題
③負性膠價格成本低，正性膠較貴；
④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環(huán)境；正性膠屬于水溶液，對健康、環(huán)境無害。
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