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發布時間:2020-12-20 09:00  
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大宗特氣供氣系統介紹
大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽能電池生產線(氣體種類包括NH3),發光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產線(氣體種類包括HCL)等行業。檢漏靈敏度:也叫有效靈敏度,指檢漏儀器在最1佳工作狀態下能檢出的最1小漏率。它們的投資規模巨大,采用1先進的工藝制程設備,用氣需求量大,對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。
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電子特氣管道系統氦檢漏檢測規定
1、氦檢漏儀表應采用質譜型氦檢測儀,其檢測精度不得低于1*10-10mbar*l/s。
2、特氣系統,內向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;
3、閥座測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;
4、外向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。
氦檢漏發現的泄漏點經修補后,應重新經過氣密性試驗,合格后再按規定進行氦檢漏。所有可能泄漏點應用塑料袋進行隔離。系統測試完畢,應充入高純氮氣,并進行吹掃。測試完畢后,應提交測試報告。
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氦質譜檢漏儀
真空檢漏的方法很多,氦質譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。
漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統或容器中;
漏率(漏氣速率):是指單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器的氣體量;
1小可檢漏率:是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率;
檢漏靈敏度:也叫有效靈敏度,指檢漏儀器在1佳工作狀態下能檢出的1小漏率;
反應時間:也稱響應時間,是指從檢漏方法開始實施(如噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間;
消除時間:是指從檢漏方法停止(如停止噴吹示漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間;
漏孔堵塞現象:指由于真空檢漏作業操作不當導致塵埃或液體堵塞漏孔,檢漏時似乎不漏氣,但一經排氣就會出現漏氣的一種現象。
高純氣體的輸送管路系統
隨著微電子工業的發展,超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高,對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格,需要達到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。具體要求如下:①可燃氣體比空氣輕者,報警裝置設置在所處場所的頂部。