藍光同茂智能蝕刻設備(圖)-鋼板腐蝕機供應商-濱州鋼板腐蝕機

NH4Cl濃度對蝕刻的影響：從溶液再生的化學反應式可以看出，[Cu(NH3)2]-的再生過程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在，如果蝕刻機藥液缺乏NH4Cl，將使[Cu(NH3)2]-得不到再生，蝕刻速度就會降低，以至于失去蝕刻能力。所以，NH4Cl的含量對蝕刻速度影響很大。但是，溶液中Cl-含量過高會引起抗蝕層侵蝕，鋼板腐蝕機機械設備，一般濃度控制在150g/L左右為宜。

溫度對蝕刻速度的影響：當蝕刻溫度低于40℃時，蝕刻速度很慢，而蝕刻速率過慢會增大側蝕量，影響蝕刻精度。溫度高于60℃，蝕刻速率明顯加快，但氨的揮發(fā)量也大大增加，導致環(huán)境污染的同時使溶液中化學成分比例失調，故一般蝕刻機工作溫度控制在45℃~55℃為宜。

刻蝕相對光刻要容易。光刻機把圖案印上去，然后刻蝕機根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕，形成半導體器件及其電路。

擴展資料：

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，鋼板腐蝕機供應商，手動、半自動、全自動

1.手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了；

2.半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調諧；

3.自動： 指的是 從基板的上載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

蝕刻設備的選擇

不管采用什么樣的蝕刻方法，都少不了與之配套的蝕刻設備，濱州鋼板腐蝕機，對于噴淋式蝕刻，需要購買合適的蝕刻機，蝕刻機傳輸式的蝕刻機也有非傳輸式噴射蝕刻機，傳輸式蝕刻機適用于批量生產，非傳輸式噴射蝕刻機適用于中小規(guī)模的生產，這種類型的蝕刻機一般都難以自制，而必須去設備廠定做或者在設備市場購買，蝕刻機選擇的原則主要由生產量決定，這里所指的生產量是指可以預計一段時間內的平均日產量。

如果采用浸泡式蝕刻就需要一定體積的蝕刻槽，蝕刻槽體的材料根據(jù)蝕刻液的性質而定，對于堿性蝕刻，鋼板腐蝕機金屬上刻字，大多采用不銹鋼材料，并要注意有保溫裝置，對于酸性蝕刻體系，可采用 PP材質制作，對于大型的蝕刻槽可以采用不銹鋼加內襯軟PP材料制作。

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