電弧離子鍍膜機廠家值得信賴,至成鍍膜機生產廠家

真空鍍膜機的市場用途

很多消費者對真空鍍膜機的概念不是很了解，不知道真空鍍膜機的市場用途，其實真空鍍膜機的衍生品有很多，而且都是與消費者息息相關，求購鍍膜機的朋友一般從事如下行業：一類是以裝飾為主，突出其裝飾功能，常用在塑膠玩具禮品包裝的鍍膜，手機外殼，數碼產品外殼，視窗，瓷磚鍍金等。

另一類是以功能為主，突出鍍膜的功能用途。會被如下行業使用：太陽能集熱管、眼鏡和鏡片的增透高反，手機殼的防輻射屏蔽、刀具的加硬、模具加硬等。

以上兩類行業都與真空鍍膜機有密切關系，所以在生活中，真空鍍膜機是十分重要的。

真空鍍膜機附著力說明了什么

附著力反映了Al膜與基片之間的相互作用力，也是保證器件經久耐用的重要因素。真空鍍膜設備濺射原子能量比蒸發原子能量高1-2個數量級。真空鍍膜機高能量的濺射原子沉積在基片上進行的能量轉換比蒸發原子高得多，產生較高的熱能，部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上形成一層濺射原子與基片原了相互溶合的偽擴散層，而且，在真空鍍膜設備成膜過程中基片始終在等離子區中被清洗，清除了附著力不強的濺射原子，凈化且基片表面，增強了濺射原子與基片的附著力，因而濺射Al膜與基片的附著力較高。

高頻磁控濺射設備有什么特點

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。