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發布時間:2021-04-24 17:15  
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鋼研納克SparkCCD7000
高分辨率 CCD 檢測器
像素數:3648 46 全行業較高
像素尺寸:8μm 全行業較小
精薄鍍膜,紫外波段檢出限更低,可做低含量 N
萬級超凈環境下打造較優光學系統
帕邢 - 龍格結構羅蘭光學系統,無像差,分辨率均勻
高發光全息光柵,光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm,全行業較高
線分辨率 0.7407nm/mm
像素分辨率 0.005926nm
譜線范圍:130-800nm(可分析 N、Li、 Na、K 等元素)
智能控制系統,再啟動耗時行業較低
潮汐式沖洗方式,冷機(關機 12 小時)啟動只需 30min,熱機啟動時間 5min
智能判斷分析間隔時間,合理補充氣,降低氣消耗
60ml/min 超低待機流量,一瓶氣 24 小時待機 70 天
分片式曝光,痕量元素識別強度大幅提高,檢出限更低
一次激發,分片曝光,同時采集,同時回數
獨立控制不同 CCD 的積分曝光時間
提升痕量元素的強度,降低儀器的檢出限
隨波段調節積分時間,提升儀器的 穩定性
現在有些品牌號稱能夠用火花直讀光譜儀(OES)直接分析灰口鑄鐵,不知道是否可信。畢竟幾十年的(OES)工作經驗,告訴我們,灰口鑄鐵必須白口化(也就是急冷使得片狀石墨的灰鐵變成游離碳化物,以滲碳體的白口鑄鐵),才能用光譜儀分析。
直讀光譜儀是用電弧(火花)的高溫使樣品中各種元素從固態直接氣化并被激發而射出各元素的特征波長,經光柵分光后,成為按波長排列的“光譜”,這些元素的特征光譜線通過出射狹縫,射入各自的檢測器,光信號變成電信號,經儀器的控制測量系統將電信號積分并進行模/數轉換,然后由計算機處理,并計算出各元素的百分含量。
光電光譜分析選用的分析線,必需符合下列要求
直讀光譜分析時,一般都采用內標法。因內標法進行分析時常采用多條分析線和一條內標線組成,常用試料中的基體元素為內標元素。組成的線對要求均稱,就是當激發光源有波動時,兩條線對的譜線強度雖有變化,但強度比或相對強度能保持不變。
如R表示強度比即
R=I1/I0
I1為分析線的強度,Io為內標線強度,表明I1和Io同時變,而R則不受影響。R與含量C之間有線性關系。
在光電直讀光譜分析時,有很多分析通道,要安裝許多內標通道有困難,因此采用一個內標線。但有人認為再要提高光電光譜分析的準確度還得采用不同的內標線,這還有待于光電轉換元件的小型化來解決。
光電法時,有時還用內標線來控制曝光量,稱為自動曝光,也就是樣品在曝光時,分析線和內標分別向各自積分電容充電,當內標線的積分電容器充電達到某一預定的電壓時,自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I,并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io,而此時Io保持常數)這個強度I或強度比R就由測光讀數所表示。
現在一般采用計時曝光法較為普遍。