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發布時間:2020-12-07 09:19  
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手機真空納米鍍膜機的特點
(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境,以保證制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質的不良影響。
(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,大大擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。
(3)蒸發或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。
瓷磚真空鍍膜設備
經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤,耐磨指數大大提高,可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設備主要配置為陰極電弧蒸發源,也有配偏壓電源,也有配磁控濺射靶。設備特點:配強大抽氣系統,抽氣快,裝載量大,產能高,生產成本低。可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層;采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術可以得到各種彩色花紋圖案。經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤,耐磨指數大大提高。
真空鍍膜設備離子鍍膜上的創新方法
真空鍍膜設備離子鍍膜上的創新方法 真空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內,真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優點,可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
