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發布時間:2021-05-05 05:45  
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相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。1000級 一般只對塵埃濃度做要求,用于光學器件,儀器等高精儀器等10000級,用于液壓設備的生產,和一些食品飲料的生產。100000級,這個級別比較的低,對凈化度要求不是很高,主要在印刷廠,包裝廠等。潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。
1000級 一般只對塵埃濃度做要求,用于光學器件,儀器等高精儀器等10000級,用于液壓設備的生產,和一些食品飲料的生產。100000級,這個級別比較的低,對凈化度要求不是很高,主要在印刷廠,包裝廠等。凈化工程的一般施工程序:粉塵作業,無塵作業后,不允許交叉作業。 否則會影響項目的質量。 也就是說,在完成所有粉塵產生操作之后,可以進行無塵操作。濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時,冷卻水管壁上會結露,如果發生在精密裝置或電路中,就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外,濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。

1級:主要應用于電子工業,這是目前對凈化工程要求高的環境,集成電路要求的精度要達到亞微米。隨著微電子工業技術領域的突飛猛進,對潔凈室的要求越來越高。及時生產間內的例子直徑僅有1微米,也會使產品壽命受到影響。凈化工程技術的興起不過是上個世紀的事情,但今天凈化技術發揮著重要作用則是有目共睹的。隨著產品向著好的方向發展,對凈化車間的依賴度也越來越高。直徑100 um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產品將有污染,特別是怕鈉的半導體車間,這種車間不宜超過25度。
