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發(fā)布時間:2020-12-29 10:02  
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非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時并未發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在顯影時也就不會存在這樣的酸堿中和,因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來。經(jīng)過曝光的正膠是逐漸溶解的,中和反應(yīng)只在光刻膠的表面進(jìn)行,因此正膠受顯影液的影響相對比較小。進(jìn)行顯影的方式有很多種,廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個階段:硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺 上,并且在硅片表面上噴灑顯影液;然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進(jìn)行顯影;顯影完成后,需要經(jīng)過漂洗,之后再烘干。
采用相同的步驟對其余信號進(jìn)行布線。布線次數(shù)取決于電路的復(fù)雜性和你所定義的通用規(guī)則的多少。每完成一類信號后,其余網(wǎng)絡(luò)布線的約束條件就會減少。但隨之而來的是很多信號布線需要手動干預(yù)。現(xiàn)在的自動布線工具功能非常強(qiáng)大,通??赏瓿?00%的布線。但是當(dāng)自動布線工具未完成全部信號布線時,就需對余下的信號進(jìn)行手動布線。應(yīng)該采用通用規(guī)則來對信號進(jìn)行自動布線。通過設(shè)置限制條件和禁止布線區(qū)來限定給定信號所使用的層以及所用到的過孔數(shù)量,布線工具就能按照工程師的設(shè)計思想來自動布線。