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PVD真空鍍膜設備蒸發系統工作方式

PVD真空鍍膜設備蒸發系統主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發方式，PVD鍍膜也是應用時間長的蒸發方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導給PVD鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，PVD鍍膜由于操作方便，結構簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發是到目前為止應用多的一種蒸發方式，PVD鍍膜可以蒸發任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結下來。

至成真空十多年來專業從事各種真空鍍膜應用設備制造，多年來致力于研發和生產真空鍍膜機，以新技術不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

雙色真空鍍膜機PVD技術的應用范圍及優缺點

很多人對真空鍍膜機PVD技術的了解不是特別全，也不知道具體是應用到哪些行業，以及它在實際運用過程有哪些優缺點?至成真空小編現在詳細和大家介紹一下:

真空鍍膜機PVD技術其應用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空鍍膜機PVD技術其優點是:

與傳統磁控濺射單色PVD技術相比，雙色PVD工藝更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統磁控濺射單色PVD技術要在實現雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎上把需要實現另一種顏色的區域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區域就只能表現金屬的本色，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度為HV600以上）。

真空鍍膜機分類

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。主要是分成蒸發和濺射兩種。在真空鍍膜設備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍膜設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉 自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速度范圍及轉動精度：普通可調及變頻調速等。