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隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來(lái)越廣泛。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來(lái)看，對(duì)真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜;充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;建筑、汽車(chē)行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。在過(guò)去幾年中，越來(lái)越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒(méi)有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

真空鍍膜設(shè)備如何操作？

真空鍍膜設(shè)備操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)和真空鍍膜機(jī)上儀表盤(pán)指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。

檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在'關(guān)'位置。打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

把薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。

在選擇真空鍍膜設(shè)備時(shí)會(huì)考慮設(shè)備的各種性能特點(diǎn)，結(jié)合自身所鍍產(chǎn)品的需要綜合考核

根據(jù)設(shè)備使用特點(diǎn)，可選擇手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)或其組合的控制方式。

真空鍍膜設(shè)備充氣方式的選擇。

根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式。

夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。