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發布時間:2021-09-01 20:13  
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技術特征:
1.單工位旋轉噴淋清洗機,包括主體、主體中間的固定機構和主體底端的拆卸機構,其特征在于:所述固定機構包括固定柱(13),所述主體的頂端設置有頂殼(1),所述頂殼(1)的中間設置有操作門(7),所述固定柱(13)位于操作門(7)的內側兩端,所述操作門(7)的一側對應于固定柱(13)的位置處設置有連接螺栓(14),所述連接螺栓(14)的一側中間對應于固定柱(13)的內部設置有齒輪(15),所述頂殼(1)的內部兩側對應于固定柱(13)的位置處設置有固定桿(3),所述固定柱(13)的內部兩側對應于齒輪(15)的位置處設置有齒槽(16)。
2.根據權利要求1所述的單工位旋轉噴淋清洗機,其特征在于:所述拆卸機構包括限位板(21),所述主體的底端中間設置有底座(6),所述限位板(21)位于底座(6)的中間表面,所述底座(6)的一側中間設置有連接座(20),所述限位板(21)的一側中間設置有限位螺栓(22),所述底座(6)的內部一側對應于限位螺栓(22)的位置處開設有螺紋孔(17),所述底座(6)的兩側對應于限位板(21)的位置處設置有限位滑槽(18),所述限位滑槽(18)的一側對應于底座(6)的位置處設置有帽檐(19)。
單工位旋轉噴淋清洗機,其特征在于:所述限位滑槽(18)的橫截面為矩形,且限位滑槽(18)的寬度與限位板(21)的寬度一致。


此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質在硅片表面停留的時間比較短,對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少,對控制成本及環境保護有利。
隨著集成電路制程工藝節點越來越先進,對實際制造的幾個環節也提出了新要求,清洗環節的重要性日益凸顯。
清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小,半導體對雜質含量越來越敏感,而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質對芯片良率的影響,實際生產中不僅僅需要提高單次的清洗效率,還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗,清洗步驟約占整體步驟的33%。


此裝置一方面采用的水霧式噴淋,摒棄了普通打水管水量大,易積水的缺點,另一方面以可移動小推車的形式,使用輕便牢靠水管與快速接頭,隨用隨收,靈活機動,解決了處理場場地水管布排困難的問題且不影響來往車輛。同時該裝置只需一人負責開啟與關閉,便可兼做其他工作,很大程度的減少了人工,也達到了全天降塵的效果。現投入的八個噴淋點與購買專業廠家的防塵設備相比,總費用由數十萬元降到三千元,小發明,也能帶來大效果!目前,該裝置現已移交給鋼渣處理場投入使用,相應的操作規定已制定好并補充到安環體系文件中。


傳動系統各層面性能對確保整機設備的穩定性和穩定性尤為重要。
關鍵由下列好多個(1)運動的穩定性;(2)運動的性;(3)傳動系統構造的剛度;(4)運動速率及運動的穩定性。電氣設備控制系統是全部設備的關鍵一部分,統籌規劃傳動系統在每個清理槽的運動時鐘頻率,操縱閘閥及其清理加工工藝控制模塊的運行狀態。
它立即關聯到設備的一切正常應用、維護保養以及生產率。
全套控制系統以一臺
PLC(可程序編程控制板)C2OOHG
為關鍵,觸摸顯示屏做為工業觸摸屏,溝通交流伺服控制系統做為圓晶挪動的執行器。