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發布時間:2021-07-03 09:12  
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真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支,在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。在涂層前一定要清洗產品,避免污染產品,確保表面的清潔度。
真空電鍍的簡單作用過程:真空電鍍接通蒸發源交流電源,真空電鍍蒸發料粒子熔化蒸發,真空電鍍進入輝光放電區并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發料離子,陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子逾越濺失離子的數量時,真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
真空鍍膜設備在塑料制品應用極其廣泛,通過真空鍍膜技術的應用,使塑料表面金屬化,將有機材料和無機材料結合起來,大大提高了它的物理、化學性能。使塑料制品更美觀、不易老化,且讓其機械性良好。
塑料制品通過真空鍍膜設備的應用,大大提高了它的性能,改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜,硬度及耐磨性大大增加。這也是為什么如今真空鍍膜設備現在很多的廠商都不可缺少的。
真空鍍膜應用,簡單地理解就是在真空環境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式,真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。真空條件下制備薄膜,環境清潔,膜不易受到污染,因此,可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。
物理氣相沉積:在真空狀態下,鍍膜材料經蒸發或濺射等物理方法氣化,沉積到基片上的一種制取膜層的方法。
真空鍍膜技術一般分為兩大類,即物理氣相沉積技術和化學氣相沉積技術。
物理氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學反應,在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積的等離子化學氣相沉積等。