湖州真空鍍膜設備量大從優(yōu) 至成鍍膜設備廠家供應

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎?

段時間有一個采購光學鍍膜機的客戶簽訂協(xié)議的時候，咨詢我這個問題，真空鍍膜機光學鍍膜加工有沒有什么需要注意的地方。在簽訂協(xié)議完成的后一個環(huán)節(jié)，我們的銷售培訓了大量的設備相關的操作知識和注意事項，客戶也學到了不少相關的知識。今天至成真空小編也再次詳細和大家講解一下真空鍍膜機光學鍍膜加工上應該注意的事項，加強大家的設備方面的知識和技能。

真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%。現(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k 1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫(yī)學、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進步作出了重大貢獻。

多弧離子真空鍍膜機的由來

我國在真空鍍膜行業(yè)，目前更多的應用都集中在裝飾方面，對能有效地提高關鍵部件使用壽命機械功能薄膜的制備設備、工藝及應用研究方面還遠遠落后于國外先進水平。同時，裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展，之前的離子鍍膜機已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問題。本技術的研發(fā)成功，將打破國內(nèi)機械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國外技術的被動局面；對提高我國裝備制造業(yè)的技術水平和真空離子鍍的技術發(fā)展都是一個非常好的作用。另外，將制備的耐磨減摩薄膜應用于其它關鍵部件中，起到了非常好的節(jié)約能源和提率的作用，可替代部分原來電鍍的工藝，對環(huán)境保護起到很好的作用。

目前，國際上機械功能硬質(zhì)薄膜（特別是刀具用膜層）大多采用陰極電弧沉積技術，但陰極電弧沉積存在的主要技術問題是所制備的膜層表面不夠光潔，有較多的顆粒，影響應用性能；特別是國內(nèi)制造的陰極電弧沉積設備顆粒問題尤為嚴重。在此技術基礎上引入磁過濾技術，雖可解決表面沉積的顆粒問題，但沉積效率只有原來的1/10左右，并且沉積面積小，從而使生產(chǎn)周期長，制造成本高，不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應用。而磁控濺射技術所制備的膜層表面光潔、細膩，沉積速率適中，能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術也存在離化率低（一般在10％），所制備的膜層在硬度、耐磨性及結合力上不如陰極電弧技術所制備的膜層；在進行化學反應性鍍膜（如TiN、TiO2）時，由于金屬粒子的離化率低、反應活性差，必須過量通入反應性氣體，造成磁控靶面的毒化（化學反應），引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果，使得磁控濺射反應鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。

真空PVD鍍膜涂層工藝冷卻如何進行？

1.高閥關閉，真空計關閉，真空室與泵組隔離；

2.當操作人員按下N2vent按鈕，預先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當真空室內(nèi)的壓力達到壓力開關預設的壓力時，N2充氣閥關閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產(chǎn)效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標準。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當真空室內(nèi)真空度達到工藝設定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統(tǒng)會自動關閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會升高。在一定時間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設定的報警值，系統(tǒng)會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設定的報警值，系統(tǒng)會有報警提示，此時，操作人員應按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。