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發布時間:2020-08-23 12:57  
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化學鍍鎳的沉積速度受溫度、pH值、鍍液組成和添加劑的影響。通常溫度上升,沉積速度也上升。每上升10℃,速度約提高2倍。
對反應速度、還原劑的利用率、鍍層的性質都有很大的影響。
鎳鹽濃度的影響不是很主要的,次亞磷酸鈉的濃度提高,速度也會相應提高,但是到了一定限度以后反而會使速率下降。每還原lmol的鎳,需消耗3mol的次磷酸鹽(即1g鍍層消耗5.4g的次亞磷酸鈉)。同時,一部分次亞磷酸鹽在鎳表面催化分解。

普通鍍鎳(暗鍍)
普通電鍍又稱暗鎳工藝﹐根據鍍液的性能和用途﹐普通鍍鎳可以分為低濃度的預液﹐普通鍍液﹐瓦特液和滾鍍液等。預鍍液﹕經預鍍可保證層與銅鐵基體和隨后的鍍銅層結合力良好。普通液﹕該鍍液的導電性好﹐可在較低溫度下電鍍﹐節省能源﹐使用比較方便。瓦特液﹕滿足小零件的電鍍﹐但鍍液必須要有良好的導電性和覆蓋能力。
化學鍍鎳層的物理-機械性能
化學鍍層的顯微硬度為350~500千克/_2,并隨P含量升高而升高。熱處理可以提高硬度,并提高耐磨性。一塊電路板的制造不是想象中那么簡單,我們很多電路板廠在生產時都會嚴格管控。
東莞市塘廈智騰五金加工廠經多年專業經驗公司主營,專業省模,鏡面拋光,精除科技,硬鋯電鍍,鍍亮鎳,鍍化學鎳,鍍各類環保鋅,鍍環保鋯,鋁質氧化,發黑電泳,鍍錫等。