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              uv鍍誠(chéng)信企業(yè)推薦「恒緣鈦金」

              發(fā)布時(shí)間:2021-03-20 21:43  

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              uv鍍武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家,主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼,鐵,鋁合金,玻璃制品,塑料工藝制品等,鍍膜顏色多樣豐富,可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

              恒緣鈦金與您分享蒸發(fā)鍍膜

              通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)

              蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1~0.2電子伏。



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              根據(jù)涂層方法不同,涂層刀具可分為化學(xué)氣相沉積(簡(jiǎn)稱CVD)涂層刀具、物理氣相沉積(簡(jiǎn)稱PVD)涂層刀具及混合工藝及組合技術(shù)。TiN涂層的耐氧化性較差,使用溫度達(dá)500℃時(shí),膜層明顯氧化而被燒蝕,而且它的硬度也滿足不了需要。混合工藝是等離子輔助CVD技術(shù)與傳統(tǒng)的PVD技術(shù)進(jìn)行有效的結(jié)合。比如先沉積傳統(tǒng)的CrN硬質(zhì)涂層,再在上面沉積一層用于減少摩擦的DLC涂層。組合技術(shù)是涂層前對(duì)工具或零部件的表面層進(jìn)行氮化,可以提高涂層的功效。

              CVD可以涂覆耐磨損性優(yōu)異的TiCN、耐熱性非常優(yōu)異的Al2O3厚膜,因此在產(chǎn)生高溫的高速、率切削加工中能顯示出長(zhǎng)壽命。

              PVD一般用在與無(wú)涂層硬質(zhì)合金、高速鋼相同或較高速的切削速度條件下,以延長(zhǎng)l刀具壽命為目標(biāo)。對(duì)基體制約少、損傷小,因此特別適合用于要求耐磨損性、耐崩刃性的刀具,也適用于要求鋒利刃口的低進(jìn)給加工與精加工或螺紋加工工具等。


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              真空鍍膜機(jī)保養(yǎng)知識(shí):

              1. 關(guān)閉泵加熱系統(tǒng),然后分離蒸鍍室(主要清潔灰塵,于蒸鍍殘?jiān)?

              2. 關(guān)閉電源或程序打入維護(hù)狀態(tài)

              3. 清潔卷繞系統(tǒng)(幾個(gè)滾軸,方阻探頭,光密度測(cè)量器)

              4. 清潔中罩室(面板四周)

              5. 泵系統(tǒng)冷卻后打開清潔(注意千萬(wàn)不能掉入雜物,檢查泵油使用時(shí)間與量計(jì)做出更換或添加處理)

              6. 檢查重冷與電氣柜設(shè)備


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