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刻蝕

刻蝕，英文為Etch，轟擊離子束刻蝕機，它是半導體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當重要的步驟。是與光刻相聯系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。所謂刻蝕，實際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理，然后通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。隨著微制造工藝的發展，廣義上來講，轟擊離子束刻蝕機生產廠家，刻蝕成了通過溶液、反應離子或其它機械方式來剝離、去除材料的一種統稱，成為微加工制造的一種普適叫法。

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離子束刻蝕機

離子束刻蝕機由真空室、工作臺、快門、真空抽氣系統、供氣系統、水冷系統、電源和  電器系統等主要部分組成，圖1-1所示為離子束刻蝕機的工作原理圖。該機在正常工作  時，首先將真空室的壓力抽至2×10-3Pa或更低，轟擊離子束刻蝕機廠家，再調節Ar氣流量，使真空室壓力保持  在1×10-2~2×10-2Pa(如需要輔助氣體，如O2、CH2等，轟擊離子束刻蝕機品牌，則可按一定比例與之混合)，  然后啟動離子源各電源，使離子源正常工作，從離子源引出一定能量和密度的離子束  被中和器發射的電子中和后，轟擊工件進行濺射刻蝕。

離子束刻蝕機

離子束技術的應用涉及物理、化學、生物、材料和信息等許多學科的交叉領域。離子束加工在許多精密、關鍵、高附加值的加工模具

等機械零件的生產中得到了廣泛應用。一些國家用于軍事裝備的建設上，如改善蝸輪機主軸承、精密軸承、齒輪、冷凍機閥門和活塞的性能。離子注入半導體摻雜已成為超大規模集成電路微細加工的關鍵工藝，導致出現了80年代集成電路產業的騰飛。

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