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電磁屏蔽

工程中，實際的輻射的干擾源大致分為兩類:類似于對稱振子天線的非閉合載流導線輻射源和類似于變壓器繞組的閉合載流導線輻射源。在高頻時，由于鐵磁材料的磁滯損耗和渦流損失較大，從而造成諧振電路品質因素Q值的下降，故一般不采用高磁導率的磁屏蔽，而采用高電導率的材料做電磁屏蔽。由于電偶極子和磁偶極子是上述兩類源的基本形式，實際的輻射源在空間某點產生的場，均可由若干個基本源的場疊加而成(圖2)。因此通過對電偶極子和磁偶極子所產生的場進行分析,就可得出實際輻射源的遠近場及波阻抗和遠、近場的場特性，從而為屏蔽分類提供良好的理論依據。

電磁屏蔽原理

電屏蔽的實質是減小兩個設備(或兩個電路、組件、元件)間電場感應的影響。電屏蔽的原理:是在保證良好接地的條件下，將干擾源所產生的干擾終止于由良導體制成的屏蔽體。8×107/·m，μ≈μo=4π×10-7H/m）可求出d=0．00667mm。因此，接地良好及選擇良導體做為屏蔽體是電屏蔽能否起作用的兩個關鍵因素。磁屏蔽的原理是由屏蔽體對干擾磁場提供低磁阻的磁通路，從而對干擾磁場進行分流，因而選擇鋼、鐵、坡莫合金等高磁導率的材料和設計盒、等封閉殼體成為磁屏蔽的兩個關鍵因素。

電磁屏蔽的原理是由金屬屏蔽體通過對電磁波的反射和吸收來屏蔽輻射的干擾源的遠區場，即同時屏蔽場源所產生的電場和磁場分量。由于隨著頻率的增1高，波長變得與屏蔽體上孔縫的尺寸相當，從而導致屏蔽體的孔縫泄漏成為電磁屏蔽關鍵的控制要素。

在通信方面屏蔽就是對兩個空間區域之間進行金屬的隔離，以控制電場、磁場和電磁波由一個區域對另一個區域的感應和輻射。常選擇有較高的電導率和磁導率的導體作為屏蔽物的材料。高導磁性的材料可以引導磁力線較多地通過這些材料，而減少被屏蔽區域中的磁力線。因為高導電性材料在電磁波的作用下將產生較大的感應電流。這些電流按照楞次定律將削弱電磁波的透入。采用的金屬網孔愈密，直到采用整體的金屬殼，屏蔽的效果愈好，但所費材料愈多。

高導磁性的材料可以引導磁力線較多地通過這些材料，而減少被屏蔽區域中的磁力線。屏蔽物通常是接地的，以免積累電荷的影響。凌赫高科專業提供電磁屏蔽服務，想了解更多產品信息您可撥打圖片上的電話進行咨詢。電磁波向大塊金屬透入時將不斷衰減，直到衰減為零。衰減的程度隨著材料的電導率、磁導率及電磁波頻率的增加而加大。屏蔽的要求較高時往往采用多層屏蔽。

電磁屏蔽室

電磁屏蔽室就是利用屏蔽材料阻隔或削弱被屏蔽區域與外界的電磁能量傳播。電磁屏蔽的原理是利用屏蔽體對電磁能流的反射、吸收和引導，它與屏蔽結構表面和屏蔽體內部產生的電荷、電流與極化現象密切相關。但是實現完全的屏蔽是很難辦到的，因為被屏蔽的區域與其余區域之間往往仍需要有電路的連接，引線與引線、引線與外殼之間總存在著絕緣間隙，仍然為電磁波提供通道。電磁屏蔽室按照其原理分為電場屏蔽（靜電屏蔽和交變電場屏蔽）、磁場屏蔽（低頻磁場和高頻磁場屏蔽）和電磁場屏蔽（電磁波的屏蔽）。通常所說的電磁屏蔽室是指后一種，就是對電場和磁場同時進行屏蔽。

按照屏蔽作用原理，屏蔽體對屏蔽效能的貢獻分為3部分：

（1）屏蔽體表面因阻抗失配引起的反射損耗；

（2）電磁波在屏蔽材料內部傳輸時，電磁能量被吸收引起傳輸損耗或吸收損耗；

（3）電磁波在屏蔽材料內壁面之間多次反射引起的多次反射損耗。

由此可以得到影響材料屏蔽效能的3個基本因素，即材料的電導率、磁導率及材料厚度。因此通過對電偶極子和磁偶極子所產生的場進行分析,就可得出實際輻射源的遠近場及波阻抗和遠、近場的場特性，從而為屏蔽分類提供良好的理論依據。這也是屏蔽材料研究本身所必須關注的問題和突破口。當然，對于電磁屏蔽體結構，其電磁屏蔽室作用還與結構、形狀、氣密性等有關，對于具體問題，還需要考慮被屏蔽的電磁波頻率、場源性質等。