您好，歡迎來到易龍商務網！
發布時間：2021-09-25 08:58
【廣告】
光刻膠介紹
光刻膠介紹
光刻膠是一種對光線、溫度、濕度十分敏感的材料，可以在光照后發生化學性質的改變，這是整個工藝的基礎。
光刻膠有不同的類型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛樹脂）等材料都可以做光刻膠。
目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括 FUTURREX、陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、LG化學等等，中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術。
光刻膠國際化發展
業內人士認為，按照現在“單打獨斗”的研發路徑，肯定不行。相關部門要加大產業政策的配套支持力度，應從加快完善整個產業鏈出發，定向梳理國內缺失的、產業依賴度高的關鍵核心電子化學品，要針對電子化學品開發難度高，檢測設備要求高的特點，組織匯聚一些優勢企業和，形成一個產業聯盟，國家建立一個生產應用平臺，集中力量突破一些關鍵技術。光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。
江蘇博硯電子科技有限公司董事長宗健表示，光刻膠要真正實現國產化，難度很大。問題是國內缺乏生產光刻膠所需的原材料，致使現開發的產品碳分散工藝不成熟、碳漿材料不配套。而作為生產光刻膠重要的色漿，至今依賴日本。前道工藝出了問題，保證不了科研與生產，光刻膠國產化就無期。光刻膠國際化發展業內人士認為，按照現在“單打獨斗”的研發路徑，肯定不行。因此，必須通過科研單位、生產企業的協同創新，盡快取得突破。
有提出，盡管國產光刻膠在面板一時用不起來，但還是要從政策上鼓勵國內普通面板的生產企業盡快用起來。只有在應用過程中才能發現問題，解決問題，不斷提升技術、工藝與產品水平，實現我國關鍵電子化學品材料的國產化，完善我國集成電路的產業鏈，滿足國家和重點產業的需求。據WitsView數據，雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場擴增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達到1。
NR9-1000py
問題回饋：
1．我們是LED制造商，麻煩推薦幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。
A 據我所知，Futurrex
有幾款膠很，NR7-1500P
NR7-3000P是專門為離子蝕刻
設計的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應用。
2．請問有沒有可以替代goodpr1518，Micropure去膠液和goodpr顯影液的產品？
A 美國光刻膠，Futurrex
正膠PR1-2000A
, 去膠液RR4，和顯影液RD6可以解決以上問題。
3．你們是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的應用產品？
A 我們建議使用Futurrex
PR1-500A , 它有幾個優點：比較好的解析度，比較好的線寬控制，
反射比較少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~
4． 求助，耐高溫的光阻是那一種？
A Futurrex, NR7 serious(負光阻)Orpr1 serious(正光阻)，再經過HMCTS
silyiation process,可以達到耐高溫200度，PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。
5．厚膜光阻在鍍金應用上，用哪一種比較理想？
A Futurrex , NR4-8000P比干膜，和其他市面上的濕膜更加適合，和理想。
6．請教LIFT-OFF制程哪一種光阻適合？
A 可以考慮使用Futurrex
，正型光阻PR1，負型光阻用NR1&NR7,它們都可以耐高溫180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7．請問，那位知道，RIE
Mask,用什么光阻比較好？
A 正型光阻用PR1系列，負型光阻使用NR5，兩種都可以耐高溫180度。
8．一般厚膜制程中，哪一種光阻適合？
A NR9-8000P有很高的深寬比（超過4：1），一般厚膜以及，MEMS產品的高需求。
9．在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎？
A 建議不使用，因為使用NR5-8000更加理想和適合。
10．我們是OLED，我們有一種制程上需要一層SPACER，那種光阻適合？
A 有一種膠很適合，美國Futurrex
生產的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers
光刻膠
按感光樹脂的化學結構，光刻膠可分為光聚合型光刻膠、光分解型光刻膠和光交聯型光刻膠。在應用中，采用不同單體可以形成正、負圖案，并可在光刻過程中改變材料溶解性、抗蝕性等。
光聚合型光刻膠
烯類，在光作用下生成自由基，自由基再進一步引發單體聚合。
光分解型光刻膠
疊氮醌類化合物，經光照后,會發生光分解反應，由油溶性變為水溶性。
光交聯型光刻膠
聚乙烯醇月桂酸酯，在光的作用下,分子中的雙鍵打開，鏈與鏈之間發生交聯，形成一種不溶性的網狀結構從而起到抗蝕作用。
按曝光波長，光刻膠可分為紫外（300~450 nm）光刻膠、深紫外（160~280 nm）光刻膠、極紫外（EUV，13.5 nm）光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X 射線光刻膠等。
按應用領域，光刻膠可分為PCB 光刻膠、LCD 光刻膠、半導體光刻膠等。PCB 光刻膠技術壁壘相對其他兩類較低，而半導體光刻膠代表著光刻膠技術的水平。
