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公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構，稱為光刻掩模版。

　　半導體集成電路制作過程通常需要經過多次光刻工藝，在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準的、具有特定幾何圖形的光復印掩蔽模版。

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經過預置

由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環境達到平衡的狀況。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

石英巖是一種主要由石英組成的變質巖（石英含量大于85%），是石英砂巖及硅質巖經變質作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質巖石經過區域變質作用，重結晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質巖石經過熱接觸變質作用而形成石英巖。