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潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導體技術也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。

100級：是常用的凈化工程，除了對空氣中的塵埃數(shù)有要求，對空氣中細菌的濃度也有明確要求。一般用于醫(yī)行業(yè)進行無菌制造，例如制造臨床用于植入人體內的物品，藥生產。醫(yī)學科學實驗也在此環(huán)境中，包括實驗動物飼養(yǎng)環(huán)境。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質量。 也就是說，在完成所有粉塵產生操作之后，可以進行無塵操作。我們國家的空氣分子控制等的技術正在朝有利的方向發(fā)展，這項技術原先是由日本發(fā)展起來的，現(xiàn)在已經受到了全世界的關注和認可，在我們國家，這項技術已經受到了相關行業(yè)的重視并且投入研發(fā)，相信在不久的未來，我們國家的相關科研人員一定會在這個領域取得讓人滿意的成績，為我們國家的凈化工程行業(yè)做出貢獻。

1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關重要。此外，液晶、光纖的生產也需要1級潔凈度的要求。布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產品工序要求的用室外，還應配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互，凈化工程的面積應在保證基本要求前提下，與生產規(guī)模相適應。一般潔凈室高度控制在2.60米，對個別較高的設備可在局部加高，而不宜提高潔凈區(qū)的高度。

排風系統(tǒng)有一般排風系統(tǒng)、有機氣體排風系統(tǒng)、酸性氣體排風系統(tǒng)、堿性氣體排風系統(tǒng)等，凈化車間設計時，要根據(jù)實際情況選擇。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質量。 也就是說，在完成所有粉塵產生操作之后，可以進行無塵操作。對不同潔凈度等級的潔凈室，產生粉塵和有害氣體的潔凈室，被排介質毒性大的、有易1燃易1爆氣體的崗位，應單獨設局部排風系統(tǒng)。