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發布時間：2020-07-28 13:22
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PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。
蒸發鍍膜
真空條件下，將鍍料加熱蒸發或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發鍍膜技術。
采用電阻加熱蒸發源的蒸發鍍膜技術，一般用于蒸發低熔點材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
電弧蒸發鍍膜
在高真空下通過兩導電材料制成的電極之間產生電弧放電，利用電弧高溫使電極材料蒸發。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優點薄膜純度高造價低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等
缺點
會飛濺出微米級的靶材料顆粒，影響薄膜質量
利用高頻電磁場感應加熱，使材料汽化蒸發在基片表面凝結成膜的技術。
氮化鉻涂層 （CrN）
CrN涂層具有良好的抗粘結性，抗腐蝕性，耐磨性。
用途：加工鋁合金，紅銅的刀具，注塑模具，零件（特別是有潤滑油浸泡）
5）DLC
DLC涂層的組成為TIN TICN DLC結構。具有摩擦系數較低，
耐磨損，膜層應力小好等優點
用途：潤滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結性強材料沖壓模具。
6）ZrN
ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時可有效減少切削瘤
