無縫管拋光加工貨真價實,棫楦金屬材料

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規范查驗。不銹鋼拋光的鏡面效果，必須嚴格遵守拋光時的工藝流程，使用高質量的工具以及派經驗豐富的拋光師傅來拋光。

區別于傳統的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的表面拋光。鋼表面電位的升高是由表面形成的一些穩定的氧化膜固體所致，正是由于這種穩定氧化膜的形成，使零件光澤化。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規范查驗?；瘜W拋光后處理鋼鐵零件化學拋光，可以作為防護裝飾性電鍍的前處理工序，也可以作為化學成膜如磷化發蘭的前處理工序。

電化學拋光所需條件及設備（1）電源：電源可選用雙相220V，三相380V。（2）整流器電解拋光對電源波形要求不是太嚴格，可選用可控硅整流器好高頻整流器。整流器空載電壓：0—20v負載電壓（工作電壓）：8—10v工作電壓低于6V，拋光速度慢，光亮度不足。整流器電流：根據客戶工件大小而定。使用干磨機配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過細打磨過的漆面，在砂碟和漆面上噴灑一定量的水，以較快的移遮蔽保護動速度，按上下左右順序各兩道打磨整個漆面。