磁控濺射沉積設備價格服務為先「沈陽鵬程」

雙靶磁控濺射鍍膜系統

設備用途：

用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質量和牢固度。

設備組成

系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（2個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

以上就是關于磁控濺射產品的相關內容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

濺射鍍膜

濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產生輝光放電。設備簡介主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低。電離出的離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應濺射等。

想要了解更多磁控濺射產品的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

自動磁控濺射系統有哪些特點？

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品，我們為您分析該產品的以下信息。

自動磁控濺射系統產品特點：

不銹鋼腔體

晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

帶觀察視窗的腔門易于上下的載片

基于LabView軟件的PC計算機控制

帶密碼保護功能的多級訪問控制

完全的安全聯鎖功能

預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片

小型磁控濺射鍍膜系統簡介

小型磁控濺射鍍膜系統適合于快速濺射鍍膜科研、教學與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點，無需380V工業電，無需額外冷水機，采用無油干泵分子泵組，無需操心真空系統和操作間環境泵油污染。

保證設備具有優異的質量與穩定可靠性。觸摸屏控制界面，帶來簡單、操作方便的體驗。

想要了解更多沈陽鵬程真空技術有限責任公司的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！