微弧氧化生產線供應按需定制 日照微弧氧化工藝

微弧氧化手電解質溶液及其組分的影響

       微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。不同的電解液成分及氧化工藝參數，所得膜層的性質也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液（如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等），其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態。溶液的pH范圍一般在9～13之間。根據膜層性質的需要，可添加一些有機或無機鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下，電解質濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化生產線、微弧氧化電源

       微弧氧化技術是近年來發展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場作用下的放電火花燒結，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫熱蝕以及改善其耐磨性等。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結合、厚度在幾微米至幾百微米之間。

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結合。但是普通的低溫釉工藝，燒結溫度高達900度，鋁鎂金屬的熔點是600多度，因此嚴重制約了微弧氧化后處理的發展，對終端消費品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發生微弧放電現象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實驗表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過高，工件易出現燒蝕現象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。